第670章 第二步：覆海！破晓 A220 EUV光刻机，陈总的新筹码！ (第2/2页)

137瓦、168瓦、214瓦……
　　
　　当数字稳稳停在220瓦时，林南立即看向一旁的光源稳定性监测曲线。
　　
　　那条代表等离子体约束状态的绿色线条，始终保持着平稳的波动，没有出现任何异常的尖峰或骤降。
　　
　　系统运行稳定！
　　
　　“功率稳定在220瓦！等离子体约束状态良好，没有出现能量泄漏！”
　　
　　林南的声音比刚才响亮了几分，紧绷的肩膀也稍稍放松了一些，脸上绽放出一抹旁人看不见的灿烂笑容。
　　
　　作为国产第一台EUV光刻机的核心研发人员，那是妥妥能登上教科书、评院士、留名青史的人。
　　
　　他连忙深吸了一口气，强行控制住自己的情绪。
　　
　　陈延森微微颔首，转头看向章延杰：“光学系统同步适配，检查光束匀化效果。”
　　
　　章延杰立马调出照明光学模块的实时数据，屏幕上弹出一组光束截面分布图。
　　
　　淡紫色的光斑均匀地覆盖在模拟掩模区域，边缘没有出现丝毫能量衰减的阴影。
　　
　　“陈老师，光束匀化度99.2%，符合220瓦功率下的光学适配要求，成像光学系统已完成自动对焦校准！”
　　
　　章延杰扬声回应道。
　　
　　这一次，控制室内的骚动比方才更加明显。
　　
　　有人悄悄抹了把眼角，还有人用拳头轻轻捶了下桌面。
　　
　　从107瓦到220瓦，不仅仅是数字的提升，更是证明他们的MCDE-EUV光源既能“点亮”，也能在更高功率下保持稳定，这意味着量产的可能性又近了一步。
　　
　　功率是制约工艺节点的重要因素！
　　
　　制程微缩需实现更小的线宽和间距，要求EUV光具备更高的光学对比度，而功率是对比度的核心支撑。
　　
　　220瓦的稳定功率，足以满足7纳米制程的芯片生产所需。
　　
　　陈延森嗯了一声，接着吩咐道：“准备晶圆台与掩模台同步测试，加载测试晶圆，按28纳米制程参数设置曝光程序。”
　　
　　汪象朝马上响应：“测试晶圆已通过机械臂送入预对准工位，掩模台已加载28纳米标准电路掩模版，同步精度校准中。”
　　
　　顷刻间，众人的视线重新聚焦在主监控屏上。
　　
　　屏幕被分成了四个画面：左上角是光源功率与等离子体状态，右上角是光学系统的光束分布，左下角是晶圆台的实时坐标，右下角则是掩模台的运动轨迹。
　　
　　随着汪象朝按下按钮，两个精密平台迅速移动，它们的运动轨迹像两条精准咬合的齿轮，每一次微调都控制在0.1纳米以内。
　　
　　“同步精度0.08纳米！已达预设标准！”
　　
　　汪象朝说道。
　　
　　陈延森看了一眼时间，此刻是晚上8点37分，距离真空泵启动已经过去了半个多小时。
　　
　　他俯下身子，对着麦克风，向实验室的工作人员叮嘱道：“曝光开始，单次曝光时间设置为0.5秒，记录所有参数。”
　　
　　核心腔室的观察窗内，淡紫色的微光骤然亮了一下，旋即恢复柔和。
　　
　　光路末端的探测器疯狂刷新着数据，屏幕上跳出一行行代表“曝光能量密度”、“线宽均匀度”、“图形套刻精度”的数值。
　　
　　每一个数字都在朝着合格的方向靠近！
　　
　　0.5秒的时间，却像一个世纪那么漫长。
　　
　　当曝光完成的提示音在控制室内响起时，汪象朝立刻操控机械臂将测试晶圆移出，送往检测室。
　　
　　一行人都跟了过去，连脚步都变得急促起来。
　　
　　在精密的EUV掩模版检测仪下，当第一张晶圆的光刻图案清晰显示在屏幕上时，现场彻底沸腾了。
　　
　　线条细如蛛丝，却没有一丝断裂或模糊，每一个晶体管的轮廓都精准得如同复刻。
　　
　　光刻机的运行原理就像印刷机，又像照相机，只不过它所运用的‘画笔’和‘画板’都更为精细。
　　
　　“成了！真的成了！”
　　
　　汪象朝喃喃低语，双手在发抖，嘴里发出‘呵呵呵’的笑声，压抑中带着亢奋。
　　
　　不一会儿，笑声变得呜咽。
　　
　　他今年五十九岁，在EUV光源领域已经摸爬滚打了大半辈子。
　　
　　曾经的他，眼看着自己的人生快要走到尽头，连EUV光源的技术突破也渐渐看不到希望，心里满是无力。
　　
　　可谁曾想，星源科技会在这时横空出世，不仅打破了僵局，更给华国自主研发光刻机带来了全新的希望。
　　
　　如今造出了EUV光刻机和烛龙G1051五轴联动数控机床，往后华国芯片产业和高端制造业，总算不用再看别人脸色了！
　　
　　汪象朝抹了把脸，想把激动的泪水憋回去，可嘴角却控制不住地往上扬，最后索性也不掩饰，任由泪水顺着脸颊往下淌。
　　
　　这眼泪里，有大半辈子的遗憾，更有苦尽甘来的畅快。
　　
　　林南见状，拍了拍他的肩膀，温言劝慰道：“汪工，咱们没白等，也没白干！”
　　
　　站在人群里的梁劲松一脸唏嘘，他暗暗打量着陈延森，默默给出评价：妖怪级别的天才！
　　
　　要知道，世界上大部分的技术突破，都需要一代人、甚至是几代人的积累，可陈延森硬是在二线的技术栈上，拿出了行业顶尖的方案。
　　
　　220瓦、分辨率小于12纳米、0.33数值孔径的光学设计，每平方厘米可容纳约800亿个晶体管，绝对可以支持10纳米和7纳米节点的EUV量产需求。
　　
　　陈延森微微一笑，这台EUV光刻机便是他的新筹码。
　　
　　毕竟森联资本涉足的行业越广，树敌就越多，若是拿不出像样的压箱底本事，又如何能获得上面的全力支持？
　　
　　另外，一台光刻机的售价高达5000万到9000万美币，能够创造巨大的经济利益。
　　
　　而且陈延森还能借此培养一批生产、安装、养护和维修的工作人员，进而获得更多的人道薪火。
　　
　　不过，Alpha样机仅适用于内部测试，并不具备实际流片测试的条件，后续还得推出Beta样机，即产品发布前由外部用户进行测试的设备。
　　
　　好在星源科技有自己的生产线，只需经过反复调试、修改、迭代，就能逐步推进，最终制造出符合要求的成品光刻机。
　　
　　“陈老师，给它取个名字吧！”
　　
　　章延杰提议道。
　　
　　“黑暗已逝，破晓乍现！就叫破晓A220吧。”
　　
　　陈延森想了想说道。
　　
　　A代表星源科技光刻机的第一条序列，220是它的峰值功率。
　　
　　与此同时。
　　
　　李青松在收到消息后，立马拿起文件，急匆匆地朝着南海旁的一座庭院赶去。