第670章 第二步：覆海！破晓 A220 EUV光刻机，陈总的新筹码！ (第1/2页)

八月中旬，阿里巴巴IPO、金陵青奥会、奥氏体304、冰桶挑战、古剑奇谭和锋菲复合的热度最高，
　　
　　让网友们满心疑惑的是，陈延森就像凭空销声匿迹了似的，完全是一副查无此人的状态。
　　
　　距他上一次公开露面，还是月初时，参加橙子幼儿园的剪彩仪式。
　　
　　“学前教育行业的势力这么大吗？连前几天的商界领袖峰会，森哥都没参加。”
　　
　　“我听说陈延森被人打了黑枪，现在还在沪城六院躺着呢！”
　　
　　“不对啊，我听到的版本是陈总买卖爱情的时候被抓了，最少得关半个月！”
　　
　　“666！楼上的哥们，你当森联资本的1000多名法务是摆设啊？等着收律师函吧！”
　　
　　“笑死，删帖速度挺快呀！这是森联资本出手了，还是他自己怕了？”
　　
　　“森哥早被人暗杀了！下个月要是有他的公开露面，那肯定是替身！”
　　
　　就在陈延森忙着推进EUV光刻机的研发进度时，网上关于他的谣言却越传越离谱。
　　
　　据不完全统计，在网友的嘴里，陈延森的死法包括但不仅限于枪杀、被车撞、遭毒杀、溺水身亡等。
　　
　　最终还是森联资本法务部联合微博、今日头条、斗音、快手和微信等多家平台，才把造谣的声音给压了下去。
　　
　　而陈延森则在一周之内，就接到了老陈的三通电话，在确定自家儿子没事后，扭头便化身辟谣战士，跑到网上跟散布谣言的网友直接对线。
　　
　　陈延森得知后，倒也没有阻拦。
　　
　　毕竟和人吵架，也能预防老年痴呆。
　　
　　时间转瞬即至，来到8月23日的傍晚。
　　
　　盛夏的晚风，将星源科技研发中心的香樟树吹得枝叶婆娑，沙沙作响。
　　
　　最里层的核心实验室，此刻却亮如白昼，空气里弥漫着一种近乎凝固的炽热。
　　
　　时间的概念被恒定的温度和湿度所模糊，唯一能感受到的流逝，是控制室屏幕上跳动的数字。
　　
　　陈延森穿戴整齐，裹得严严实实，与梁劲松、林南、汪象朝和章延杰等人站在控制台前，透过厚重的抗辐射玻璃，凝视着眼前的庞然大物。
　　
　　尽管这台EUV光刻机只是Alpha样机，但金属机身在冷光灯下泛着精密的银辉，数不清的管线如脉络般缠绕，核心腔室的观察窗透出淡紫色的微光。
　　
　　EUV光源、光学系统和双工件台的技术天堑，竟被他们一个接一个地成功攻克。
　　
　　大厅里异常安静，只能听到通风系统低沉的嗡鸣。
　　
　　工程师们穿着全套无尘洁净服，像手术室里的医生，在设备周围轻缓走动，进行着最后的检查。
　　
　　“老板，各分系统自检完毕，真空机组随时可以启动。”
　　
　　林南的声音略带沙哑，冲着陈延森汇报道。
　　
　　陈延森点了点头道：“按计划执行，逐步建立光路真空。”
　　
　　命令下达后，控制室内的气氛瞬间绷紧。
　　
　　巨大的真空泵组开始工作，发出低沉的咆哮。
　　
　　显示屏上，代表光路内部真空度的数字，呈现断崖式的下跌趋势：0.01Pa、0.0001Pa、0.000001Pa，向着高真空迈进。
　　
　　所有人的心都提到了嗓子眼！
　　
　　极致的真空环境是EUV光源传输的前提，任何一个微小的泄漏，都会导致前功尽弃。
　　
　　不知过了多久！
　　
　　汪象朝突然大声喊道：“真空度稳定在0.0000006帕斯卡！已达预设值！”
　　
　　控制室内响起一阵轻微的、克制的骚动，有人轻轻握了握拳。
　　
　　第一步，成功了！
　　
　　为什么EUV光刻机的光源系统、主腔体中的照明光学系统、成像光学系统、晶圆平台模组、掩模搬运模组和晶圆搬运模组都得处于真空环境下？
　　
　　这是因为EUV光波长极短，极易被包括空气在内的所有物质吸收。
　　
　　在真空环境中，可最大限度减少气体分子对EUV光的吸收和散射，从而确保光源能量能有效传输至后续光学系统。
　　
　　若处于非真空环境，EUV光会在传输过程中大幅衰减，无法满足光刻所需的能量强度。
　　
　　这一模块的核心技术，是由章延杰牵头，联合几十名沈阳光机所的工程师共同攻关拿下的。
　　
　　因此，他比任何人都紧张，生怕出现纰漏，拖了团队的后腿。
　　
　　“启动光源预热，功率设定为最低档位。”
　　
　　陈延森语气平静地宣布下一道指令。
　　
　　令人紧张的时刻到来！
　　
　　这是星源科技驯服的第一头猛兽——磁约束放电激发等离子体光源（MCDE-EUV光），即将被唤醒！
　　
　　如果一切正常，它将用“电磁场”代替“激光”作为激发和约束等离子体的手段，进而获得微弱的、波长为13.5纳米的极深紫外光。
　　
　　时间一分一秒地过去。
　　
　　主监控屏上，一个原本平坦的基线，微微跳动了一下。
　　
　　随后，一个虽然微弱但清晰可辨的信号峰值，顽强地升了起来！
　　
　　“有信号了！”一名年轻的研究员忍不住地喊了出来，声音因激动而变得有些失真。
　　
　　大家心里清楚！
　　
　　第一台EUV光刻机对华国的重大战略意义！
　　
　　几乎在同一时间，位于光路末端的EUV功率探测器，传回了第一条数据：107瓦！
　　
　　一个在ASML看来早已被甩在身后的数字，此刻却让整个控制室陷入了短暂的寂静，随即爆发出巨大的欢呼声！
　　
　　许多人下意识地拥抱在一起，眼眶瞬间红了。
　　
　　林南感觉自己的手都在微微颤抖，于是紧紧抓住栏杆，强迫自己冷静下来。
　　
　　陈延森倒是心态平稳，他抬手压了压，控制室里的欢呼声很快平息。
　　
　　“提高功率档位！”陈延森继续说道。
　　
　　EUV光刻机的功率直接决定单位时间内的晶圆处理数量，每一次曝光都需足够的EUV光能量触发光刻胶的光化学反应。
　　
　　若光源功率低，需延长单次曝光时间或增加脉冲次数，才能满足能量需求，导致单晶圆处理时间变长。
　　
　　比如200W功率的机型每小时可处理约125片晶圆，而250W机型可提升至每小时170片，产能提升近40%。
　　
　　技术差一点，就是差了一大截！
　　
　　而且功率越高，单位晶圆的光刻成本就越低，规模化优势就越强。
　　
　　闻言，林南立刻收敛心神，右手在控制台上快速滑动，目光紧盯着功率调节界面：“收到！当前目标档位220瓦，升压速率已调至安全阈值，避免等离子体不稳定。”
　　
　　控制台屏幕上，代表光源功率的数字开始缓慢爬升，每一个数值的跳动，控制室内的呼吸声就跟着沉重一分。
　　
　　

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