第五百章 先加入一点点黑科技 (第2/2页)

“好了，别浪费时间，实践才是检验一个模型有没有用的途径，卡森，你先把样品拿去做退火处理。”
　　
　　退火炉可以同时放10片样品，操作起来比ALD沉积方便，3小时左右就能搞定。
　　
　　“好。”
　　
　　卡森点头。
　　
　　许青舟先去材料处找过渡金属硫族化合，准确来说，金属硫族化合物WS，打算在石墨烯表面预沉积单层WS进行过渡。
　　
　　利用Purcell效应增强单光子发射效率，界面缺陷的减少可抑制非辐射复合，提升光源纯度。
　　
　　拿到WS，许青舟换好衣服进实验室。
　　
　　使用铜箔，放入前驱体Sn(NEt)，引入脉冲式前驱体加热，80°CD到120°C之间的循环。
　　
　　在样品中加入其它物质，毫无疑问会增加实验难度，毕竟要确保各技术模块无缝兼容并最大化协同效应
　　
　　除了在制作石墨烯衬底时每一步都需要精细，针对WS。后续还增加了一个手性等离子体脉冲预处理。
　　
　　有条不紊地推进。
　　
　　“呼~”
　　
　　许青舟望着设备中的样品，长吐了口气，心说还好没手生。
　　
　　CVD石墨烯制备大约需要8小时，他也没傻等着，出去准备继续搞经济模型中离散小波变换的算法。
　　
　　而卡森这边也正按照许青舟的要求，进行梯度退火。
　　
　　下午三点，退火完成，卡森却没走。
　　
　　“你嗯？”
　　
　　许青舟疑惑地望着卡森，这家伙中午不是说要早点溜吗。
　　
　　“约会？不如研究怎么给石墨烯衬底喷个SnCl原子雾，您知道的，超导转变温度可比女孩子的情绪变化规律。”
　　
　　卡森耸耸肩说。
　　
　　许青舟无奈地笑了笑，在一定程度上认同这句话，毕竟，宋校花前一秒能捶她，下一秒就能温柔的贴过来。
　　
　　他收起乱七八糟的想法，对一旁做着笔记的孙思敏和马尔斯说道：“这四组样品的检测报告就交给你们两个了。”
　　
　　退火后的NbSn薄膜可直接在石墨烯衬底上进行拉曼光谱检测，不用先剥离。毕竟万一样品坏了，可以直接丢，免得还得拿到退火炉里浪费电。
　　
　　这俩人跟了一个多月的实验，该是上手的时候了。
　　
　　也不用去预约共享设备，办公室装备有便携式拉曼光谱仪，能搞定简单的表征测试。
　　
　　孙思敏先是一愣，接着转为惊喜。
　　
　　“啊，万一弄坏了怎么办？”
　　
　　马尔斯搓着手，这还是他们进入课题组之后第一次经手，虽然仅仅是把样品放到机器上，按下几个检测键而已。
　　
　　“如果你愿意的话，可以照价赔偿。”许青舟笑着说道。
　　
　　马尔斯摇摇头。
　　
　　许青舟也不浪费时间。
　　
　　这头，孙思敏和马尔斯俩人也“合力”把第一组样品放到便携式拉曼光谱仪里边。
　　
　　俩人的表情小心翼翼，每个步骤都会互相商量，确定有没有问题。
　　
　　许青舟抬头看了眼，不由笑了笑，想起自己第一次进实验室时也是这样，生怕出什么问题。
　　
　　两个小时的实验，这俩人拖到下午六点。
　　
　　“教授，扫描完了。”孙思敏过来，怯生生地说道。
　　
　　许青舟点头，让孙思敏俩人把样品放好，直接打开电脑看数据。